近場掃描光學顯微鏡原理

原理：

使用由熔拉或腐蝕光纖波導所製成之探針，在外表鍍上金屬薄膜已形成末端具有15nm至100nm直徑尺寸之光學孔徑(optical aperture) 的近場光學探針，再以可作精密位移與(yu) 掃描探測之壓電陶瓷材料(piezo-electrcal ceramics) 配合原子力顯微技術(atomic force microscopy, AFM) 所提供的高度回饋控製，將近場光學探針非常地(垂直與(yu) 水平於(yu) 樣品表麵的方向之空間解析度可分別達到約0.1nm 與(yu) 1nm) 控製在被測樣品表麵上1nm 至100nm 的高度，進行三維空間可回饋控製的近場掃描(scanning)，而具有奈米光學孔徑之光纖探針即可做接收或發射光學訊息之用，由此獲得一真實空間之三維近場光學影像，因其與(yu) 樣品表麵距離遠小於(yu) 一般光波波長，測得的信息皆屬近場光學作用的信息，無平常常見的遠場光學中繞射極限的光學解析度限製。

偏光顯微鏡 近場光學顯微鏡的應用：

近場光學顯微鏡(倒置金相顯微鏡)突破傳(chuan) 統光學繞射限製，可直接利用光來觀察奈米材料，分析奈米元件顯微結構及缺陷，近年來已應用在分析半導體(ti) 雷射元件上。因其具有高解析度，可應用於(yu) 高密度資料存取，目前已運用此一技術成功製作出超過100 GB 之超解析近場光碟片。此外還可應用於(yu) 生物分子及蛋白質熒光光近場顯微分析。

的原理與(yu) 構造：

一般光學顯微鏡於(yu) 遠場觀測時，因受到光波的繞射限製，其解析度僅(jin) 有數百納米左右。但若在近場觀測時，可避免繞射及幹涉的產(chan) 生，能克服繞射限製，將解析度提升至數十納米左右。

的結構中，以末端背有數十納米口徑的錐狀光纖為(wei) 探針。將探針和被測物的距離控製在近場觀測範圍內(nei) ，利用可精密定位與(yu) 掃描探測的壓電陶瓷，並配合棋牌平台有挂吗所提供的高度回饋控製係統，進行三維空間近場掃描。再由光纖探針接收或發射光學訊號，以獲得三維近場光學影像。