紅外金平麵反射爐該係列應用廣泛，從(cong) 碳納米管生產(chan) 係統到產(chan) 線生係統；平麵金反射爐可用於(yu) 2~12英寸圓晶的退火爐和產(chan) 品的烘幹爐；

RTP快速退火爐已經成為(wei) 半導體(ti) 、鐵電體(ti) 以及鍍膜行業(ye) 的重要退火技術。但是目前，隻有大型的、昂貴的生產(chan) 設備才能完成快速熱處理，這大大降低了研發工作的效率（尤其是小的樣品）。為(wei) 了滿足市場的需求，ADVANCE RIKO研發出MILA-5000係列的小型快速退火爐。此係列的設備包含紅外金麵反射爐和高精度的溫度控製器。根據需求選配相應的泵和氣體(ti) 接口，MILA能提供與(yu) 大型RTP設備相同的熱處理性能。

高溫快速熱退火爐HT-RTA59HD高溫快速退火係統可以在SiC等高熔點的材料快速加熱到1800℃。